반도체 CD(Critical Dimension) 정의 및 ASML 노광 장비와의 관계
안녕하세요^^ 베네모아 입니다. 오늘은 반도체 CD(Critical Dimension) 정의 및 노광 장비와의 관계에 대해 간단히 정리해보려고 합니다. CD는 ‘웨이퍼 위에 새겨지는 패턴의 최소 선폭’으로 유명한 공식에 의거 파장에 비례하고, NA(개구수)에 반비례합니다. 반도체 제조 공정 안에서도 노광, 식각, 증착, CMP 등 다양한 공정의 영향을 받는 파라미터입니다. 이 안에서도 오늘은 노광장비가 CD에 미치는 영향에 대해 간단히 요약해보겠습니다. 초간단 … Read more